最后的批次加工或在线清洗系统
在最后的在线清洗系统中，硅片是在卧式系统中运送和加工，用化学试剂清洗，同时加上不同的超声垫组合。
工业生产中，最终清洗工艺步骤主要使用批加工类型的湿法化学清洗设备。RENA和其他供应商提供最终清洗用的在线设备。这些设备的长度一般为6-11米。在此系统中，残留的碎片和微粒从硅片表面除去，最后一步是干燥工艺。结果得到干燥、没有污迹的清洁硅片，可以用于电池片的第一个工艺（绒化）了。
硅片的表面质量和机械性质
切割工艺后，硅片表面必须从Si切口清洗。在切片工艺过程中，约50%的Si材料以Si微粒的形式损失了。这些硅微粒转移到切割液中，因而使硅片表面沾污。约95-98%的微粒、杂质和有机物在RENA预清洗系统中已经除去。残留的5-2%在最终清洗工艺中除去。
最终清洗工艺后，硅片表面通常用硅片检测系统检验。高分辨率检测系统的表面分析能显示硅片表面这种污染的残留物。
S/FASW硅片的表面质量
众所周知，FASW硅片工艺在工业化生产中有巨大的好处（切割物料损失的循环利用，增加线切割的产额和大大减少资本支出和运营成本），获得产业越来越多的采用。
图6显示了浆料切割与FASW切割的单晶硅片之间污染的质与量的不同。这些硅片的来源相同，因而是可比的。将浆料切片与FASW切片工艺的金属污染做比较。金属污染的量用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测量。
图7显示硅片表面的有机污染。用气相色谱质谱联用方法(GC-MS)进行测量。与金属残留物的结果相反，浆料切割的硅片的有机污染分量比FASW硅片要少。使用不同设备时，观测到不同的清洗结果。最终要求一个可接受污染水平的通用指标，现在应由硅片和太阳能电池制造商合作开发。
