日本郡是(GUNZE)开发出了高耐热透明薄膜“F膜”的高韧性产品,目前已开始样品供货。郡是在国际纳米科技综合展及技术会议“nano tech 2010”(2月17~19日,东京有明国际会展中心)上展出了样品(图),目标用途为电子纸、柔性太阳能电池及有机EL照明等的底板。
该产品不仅保持了此前F膜所具备的耐热性(在180℃工艺下十分稳定)、光学特性(透射率为92%,雾度为0.2%以下,延迟时间为5nm以下)及尺寸稳定性(在150℃温度下放置30分钟时,热收缩率为0.10%以下,吸水率为0.01%)等特性,还改善了F膜脆性缺点。
原来的F膜直接采用该领域普遍使用的、与PET膜相同的制造工艺(ITO溅镀及有机材料涂布等)时,在不同条件下,会发生脆性较高造成的断裂等问题。虽然郡是并未透露此次开发的高韧性薄膜的韧性数值,但称将韧性提高到了“即使采用与PET膜完全相同的工艺也没有问题”的水平。
据介绍与原来的F膜相比,薄膜的制造工序增加,但膜厚减小到了50μm,从而控制了成本上涨。
用于电子纸、柔性太阳能电池及有机EL照明等用途时,要求使用耐热性比PET膜更高的高分子膜,但目前还无有明确的主角。除了PEN(聚邻苯二甲酸酯)膜、PES(聚醚砜)膜及PSF(聚砜)膜之外,F膜也是候选之一。
郡是表示,希望通过宣传F膜在尺寸稳定性和光学特性方面优于PEN等薄膜的特点,使其在柔性电子设备上普及应用。该公司认为,尤其在使用大尺寸底板或形成微细图案时,薄膜需要具备较高的尺寸稳定性,因此可充分利用F膜的特点。
另外,关于F膜的成分,除了“热可塑性树脂”之外,该公司未透露更多信息。(记者:藤堂 安人)

左边为原来的F膜,右边为新开发的高韧性F膜。因弯曲时不会断裂,因此制成纸鹤状进行了展示。薄膜采用熔融挤压成型技术制成。
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