ITO镀膜技术 大突破

 
工研院跨领域研发「低温大气压电浆透明导电镀膜制程与设备」，这项研究获选工研院今年的「杰出研究金牌奖」，昨天在工研院37周年院庆中获得表扬。 记者李青霖／摄影

工研院成功突破昂贵的真空技术，研发出新一代透明导电镀膜制程和设备，不但节省三分之二的成本，更用「锌」取代稀有的「铟」材料，是项兼顾环保的绿色制程。这项技术，可以应用在触控面板及太阳能（PV）的透明电极制造上。

铟锡氧化（ITO）透明导电膜占电阻式触控面板成本高达九成，日商日东电工及尾池拥有全球七成市占率。若工研院这项「低温大气压电浆透明导电镀膜制程与设备技术」能顺利进入量产，不仅会协助台湾ITO透明导电膜厂扩大市占，也让触控面板和PV制造成本大幅下降。

工研院昨（5）日举行37周年院庆典礼，会中颁发夺得杰出研究金牌奖的「低温大气压电浆透明导电镀膜制程与设备技术」，是花了六年时间研发出的成果。

代表领奖的机械所研究员张加强说，会舍弃传统技术，改采非真空大气压电浆技术，是因为执着创新的精神，而成就获奖的荣耀。