文件类型：PDF文档
文件大小：0.3M
硅材料中氮的性质和研究——浙江大学半导体材料研究所杨德仁
2011-03-21 18:223760下载
点赞 0
反对 0
举报 0
收藏 0
评论 0
- 氮气区熔硅单晶中的新红外吸收谱
0下载709浏览0.21M
- 减低多晶硅还原电耗的途径
1下载661浏览0.4M
- 三氯硅烷的制备及精制工艺进展
0下载600浏览0.04M
- 介绍一种区熔掺杂方法
0下载520浏览0.08M
- NTD 氨气熔单晶硅退火行为研究
0下载363浏览0.38M
- 300mm硅单晶的生长技术--北京有色金属研究总院
0下载373浏览0.1M
- 西门子法生产多晶硅的热力学
0下载442浏览1.02M
- 国产炉拉制∮> 76.2mm 无位错FZ硅单晶的两种工艺热场分析
0下载355浏览0.31M
- 反应精馏过程图解法设计策略研究
0下载331浏览1.08M
- 改进型三氯氢硅合成工艺初探
0下载567浏览0.73M