文件类型：PDF文档
文件大小：0.77M
原生直拉单晶硅中的铜沉淀规律
2011-01-27 01:067430下载
点赞 0
反对 0
举报 0
收藏 0
评论 0
- N2气氛下快速退火（#$%）对硅片氧沉淀密度和表面形貌的影响
0下载798浏览0.2M
- 直拉硅中氧化诱生层错研究进展
0下载731浏览0.2M
- 晶体硅中的铁沉淀规律
0下载662浏览0.17M
- Classification of microdefects in semiconducting silicon
3下载726浏览0.64M
- 氢气退火对大直径直拉硅单晶中空洞型缺陷的影响
0下载822浏览0.21M
- Defects in germanium-doped Czochralski silicon
0下载652浏览0.2M
- 申国 光伏电池行业研究
2下载740浏览1.01M
- 高电导本征纳米硅膜及其缓冲层太阳能电池
0下载661浏览0.72M